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  • 条形离子源
  • 产品特性:

    适用范围:沉积类金刚石薄膜,DLC、氧化物、氮化物和碳化物的辅助镀膜,表面清洗、物理化学改性;表面氧化层的去除;PECVD、化学气相沉积辅助。

  • 产品描述
  • 应用领域

    在现在的膜层沉积过程中,人们已经明确了金属离化率的重要作用,为了提高金属离化率,近期条形离子源在生产实际中已经广泛采用,在镀膜设备中公认为不可或缺的部件,实力源条形离子源配备专用电源在真空在线清洗中,长条环形的高能量辉光,可以发射高密度的离子流,大大提高了气体离化率,有利于去除基片、工件表面原始吸附的气体离子、水分子和碳氢污染等,包括物理吸附、化学吸附和浅表化合物。在辅助沉积过程中,活化工件表面,改善膜层结合力和光洁度,提高膜层粒子在表面的迁移、扩散能力,有利于形成致密的膜层组织。

    优点:没有炽热的灯丝,没有灯丝寿命问题,能量调节范围宽,角度可调;设计先进,结构简单可靠,全水冷结构,可低温长期免维护稳定工作

    适用范围:沉积类金刚石薄膜,DLC、氧化物、氮化物和碳化物的辅助镀膜,表面清洗、物理化学改性;表面氧化层的去除;PECVD、化学气相沉积辅助。